Zeiss legt Rechtsstreit mit Nikon bei

Kontrahenten einigen sich auf millionenschwere Einmalzahlung und ein neues Lizenzabkommen

RAVENSBURG - Der Optik- und Halbleiterkonzern Zeiss aus Oberkochen (Ostalbkreis) hat zusammen mit seinem niederländischen Partner ASML einen Schlussstrich unter die seit Jahren schwelenden Patentstreitigkeiten mit dem japanischen Wettbewerber Nikon gezogen. Das teilte das Unternehmen am Mittwoch mit. „Nikon, ASML und Zeiss haben eine Absichtserklärung zur Beilegung aller rechtlichen Auseinandersetzungen zu Patenten für Lithografiesysteme und Digitalkameras unterzeichnet“, hieß es in dem Schreiben. Die Vereinbarung, die die endgültige Beilegung des Rechtsstreits und ein gegenseitiges Lizenzabkommen beinhaltet, soll im Februar rechtskräftig werden und weltweit gelten.

Zeiss und ASML haben sich darin verpflichtet, 150 Millionen Euro an Nikon zu zahlen. Darüber hinaus überweisen die beiden Konzerne im Rahmen des vereinbarten Lizenzabkommens, zehn Jahre lang Gebühren von 0,8 Prozent des Umsatzes von Immersions-Lithografiesystemen an die Japaner.

Welcher Anteil von den 150 Millionen Euro auf Zeiss entfällt und wie hoch der Umsatz mit Immersions-Lithografiesystemen ist, wollte Zeiss auf Anfrage der „Schwäbischen Zeitung“nicht preisgeben. Im abgelaufenen Geschäftsjahr 2017/18 (30. September) verzeichnete das gesamte Halbleitergeschäft von Zeiss Erlöse von 1,53 Milliarden Euro und steuerte damit 26,3 Prozent zum Gesamtumsatz der Zeiss-Gruppe bei.

Hintergrund der Auseinandersetzungen zwischen Nikon auf der einen und Zeiss und dem niederländischen Chipausrüster ASML auf der anderen Seite ist ein sogenanntes Kreuzlizenzabkommen, das beide Parteien vor knapp 17 Jahren geschlossen hatten. In diesem Abkommen wurde die gegenseitige Nutzung von Patenten geregelt für die, wie das Wirtschaftsmagazin „Forbes“recherchierte, Zeiss und ASML 145 Millionen US-Dollar an Nikon zahlen mussten. 58 Millionen USDollar davon entfielen auf Zeiss.

Das Abkommen hatte eine Laufzeit von zehn Jahren und bezog sich auf den damaligen Patentstand. In der anschließend vereinbarten zweijährigen Friedenspflicht wollten sich beide Seiten auf eine Neuregelung und Verlängerung verständigen – davon zumindest gingen Zeiss und ASML aus. Doch die Japaner wählten stattdessen den Rechtsweg und verklagten die Europäer im April 2017. Zeiss und ASML reichten daraufhin umgehend Gegenklagen ein.

Gegenstand des Rechtsstreits sind im Wesentlichen Patente der DeepUltra-Violet-Technologie (DUV). Sie betreffen damit den Kern des Lithografiegeschäfts von Zeiss. Die neue EUV-Technologie, in die Zeiss und ASML große Hoffnungen setzen, ist von den Patentklagen dagegen nicht betroffen. Mit Lithografiesystemen produzieren Unternehmen wie Intel oder Samsung Computerchips.

FOTO: ZEISS Montage von Lithografiesystemen in Oberkochen: Die beiden Partner Zeiss und ASML haben sich mit dem Konkurrenten Nikon auf ein neues Lizenzabkommen geeinigt.